松田 晃史 / Akifumi Matsuda
物質理工学院 材料系
エネルギーコース / 材料コース
専門分野
酸化物エレクトロニクス，薄膜・ナノ材料，ワイドギャップ半導体，エネルギー変換材料，エピタキシャル結晶成長，低温薄膜プロセス
（科研費審査区分：無機材料および物性，結晶工学，無機工業材料）
キーワード レーザープロセス、原子レベルナノインプリント、自己組織化、欠陥エンジニアリング、オプトエレクトロニクス、フレキシブルデバイス、エナジーハーベスタ
教員室 すずかけ台キャンパス J2棟16F 1607室
E-mail matsuda@@mct.isct.ac.jp (余分な@を削除してください)
学会活動
所属学会
応用物理学会
日本セラミックス協会
日本MRS
米国MRS
電気学会
日本熱電学会
学会委員等
日本MRS 日本MRSニュース編集委員会 (2019.06〜)
日本セラミックス協会 関東支部 常任幹事 (2020.04〜)
日本セラミックス協会 関東支部 普及・啓発委員会 (2020.04〜)
日本セラミックス協会 教育委員会 セプロ小委員会(2023.05〜)
出張講義
東京工業高等専門学校「先進科学技術特論」 (2016)
講義担当
略歴
| 年.月 | 項目 |
|---|---|
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2024.04 |
東京科学大学 物質理工学院 准教授（材料系/エネルギーコース・材料コース）＊改組による |
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2022.04 |
東京工業大学 物質理工学院 准教授（材料系/エネルギーコース・材料コース） |
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2016.04 |
同 物質理工学院 講師（材料系/エネルギーコース・材料コース） |
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2015.03 |
同 大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻・講師 |
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2011.09 |
同 大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻・助教 |
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2008.04 |
株式会社日立製作所 材料研究所・研究員 |
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2008.03 |
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻 博士後期課程 修了・博士(工学)
“Study on Morphology, Structure, and Property of Self-Organized Nanostructures of Functional Oxides and Metals“ |
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2005.03 |
同 大学院総合理工学研究科 物質科学創造専攻 修士課程 修了 |
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2003.03 |
同 工学部無機材料工学科 卒業 |
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(東京都出身。幼少期を米国NY州にて過ごし、以下略歴をたどる) |
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受賞歴
| 年.月 | 項目 |
|---|---|
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2019.06 |
日本セラミックス協会 進歩賞
「ワイドギャップ酸化物半導体薄膜の室温エピタキシャル合成」 |
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2016.12 |
日本MRS 奨励賞
“Buffer-induced room-temperature epitaxy of β-Ga2O3 thin films by excimer laser annealing“ |
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2016.03 |
日本セラミックス協会 年会優秀ポスター賞
“Phase selective epitaxy of VOx thin films by annealing under uniaxial compression and their conduction property“ |
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2014.06 |
日本セラミックス協会 優秀総説論文賞(共同受賞)
“Room-temperature synthesis of epitaxial oxide thin films for development of unequilibrium structure and novel electronic functionalization“ |
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2013.09 |
日本セラミックス協会 秋季シンポジウム優秀発表賞
「室温合成エピタキシャル酸化物薄膜の水素還元による磁気抵抗型積層薄膜の作製」 |
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2006.03 |
日本セラミックス協会 年会最優秀ポスター賞
“Development and characterization of epitaxial [ferromagnetic metal/semiconductor] hybrid nano-materials by PLD and hydrogen reduction“ |
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2005.03 |
東京工業大学 土肥賞
「PLD合成酸化物薄膜の水素還元による金属エピタキ シャル薄膜の作製と評価」 |
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2004.12 |
2004 MRS Fall Meetng & Exhibit, Symposium FF Student Award
“Low-temperature formation of epitaxial metal thin films by way of hydrogen reduction of epitaxially grown oxide thin films“ |
招待講演
ワイドギャップ酸化物半導体薄膜の室温エピタキシャル合成 Presentation Invited
日本セラミックス協会 2019年年会, “03: 導電性材料”, 2B01A, 工学院大学, 東京都新宿区, Mar-2019.
Laser-induced room-temperature epitaxy of wide-bandgap semiconductor thin films Presentation Invited
The 4th International Symposium on Hybrid Materials and Processing (HyMap 2017), “Fundamental Studies”, A-IN-12, Haeundae Grand Hotel, Busan, South Korea, Nov-2017.
Buffer-layer Enhanced Heteroepitaxy of Wide-bandgap Semiconductor Thin Films by Room-temperature Laser Processing Presentation Invited
IMAPS/ACerS 13th International Conference and Exhibition on Ceramic Interconnect and Ceramic Microsystems Technologies (CICMT 2017), “LTCC & Advanced Deposition”, 2-F04-IN, Todaiji Temple Cultural Center, Nara, Japan, Apr-2017.
Room-temperature epitaxy of wide bandgap oxide semiconductors Presentation Invited
The 18th International Symposium on Eco-materials Processing and Design (ISEPD 2017), “A: Green processing of eco-materials”, AI2-11, Okinawa Jichikaikan, Naha, Japan, Feb-2017.
Low-temperature heteroepitaxy of wide-gap oxide semiconductor thin films Presentation Invited
The 3rd International Conference on Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM), “02: Oxide Electronics”, ABS-351-ICYRAM, Indian Institute of Science, Bangalore, India, Dec-2016.
Room-temperature epitaxial synthesis and advanced nano-scale functionalization of widegap ceramic-based thin films Presentation Invited
The 14th International Conference on Advanced Materials (IURMS-ICAM 2015), “VI-3: Advanced Functional Ceramics”, 1VI-3We2B2-3, International Convention Center Jeju, Jeju, South Korea, Oct-2015.
Multi Graphene on 10B Pencil Drawing Print Paper Irradiated by Femtosecond Laser Presentation Invited
The 14th International Union of Materials Research Societies-International Conference on Advanced Materials (IURMS-ICAM 2015), “IV-6: Materials Chemistry and Catalysis”, IV-6Mo4C1-3, International Convention Center Jeju, Jeju, South Korea, Oct-2015.
Nanoimprint Fabrication and Application of Subnano-Scale Surface-Patterned Glassy Substrates Presentation Invited
13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014), “24A-6: Template / Material”, 24A-6-1, ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto,, Japan, Oct-2014.
Subnanometer patterning on the surfaces of glassy substrates by thermal nanoimprint process Presentation Invited
The 31st International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-31), A-72, Chiba University, Chiba, Japan, Jul-2014.
セラミックス単結晶薄膜の常温インテグレーションと新機能展開 Presentation Invited
日本セラミックス協会 第18回秋季シンポジウム, “6: セラミックスインテグレーション技術による材料展開”, 2H23, 大阪府立大学, 大阪府堺市, Sep-2005.
酸化物モールドナノインプリント法による表面ナノ構造の作製と応用 Presentation Invited
第66回応用物理学会学術講演会, “6.3: 酸化物エレクトロニクス”, 9p-G-1, 徳島大学, 徳島県徳島市, Sep-2005.