2023年7月6日(木)～7月7日(金)、東京工業大学 蔵前会館において開催された応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会(NGL2023)にて、M2 島田が学生ながら招待講演(ポスター)を行いました。
原子〜シングルナノレベルのパターニング技術と、導電性ナノ粒子制御を融合した研究に関する発表です。
1.
ナノインプリントプロセスを用いたポリマー基板上の金属ナノ粒子パターン形成 Presentation Invited
NGL2023 次世代リソグラフィ技術研究会, “Nanoimprint Lithography (NIL)”, P10, 東京工業大学, 東京都目黒区, Japan, 06-Jul-2023.